在加拿大
SML研发第二代EUV光刻机:性能提升70% 2025年问世半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,成本能占到整个生产过程的1/3,光刻机也因此成为最重要的半导体制造装备,没有之一。目前最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,而且供不应求。2019年,台积电、三星都会开始量产7nm EUV工艺,现有的EUV光刻机也差不多成熟了,虽然产量比起传统的DUV光刻机还有所不如,不过已经能够稳定量产了,7nm及明年的5nm节点上EUV光刻机都会是重点。 EUV光刻机未来还能怎么发展?2016年ASML公司宣布斥资20亿美元收购德国蔡司公司25%的股份,并投资数亿美元合作研发新一代透镜,而ASML这么大手笔投资光学镜头公司就是为了研发新一代EUV光刻机。日前韩媒报道称,ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有的光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA(高数值孔径)透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。在这个问题上,ASML去年10月份就宣布与IMEC比利时微电子中心合作研发新一代EUV光刻机,目标是将NA从0.33提升到0.5以上,而从光刻机的分辨率公式——光刻机分辨率=k1*λ/NA中可以看出,NA数字越大,光刻机分辨率越高,所以提高NA数值孔径是下一代EUV光刻机的关键,毕竟现在EUV极紫外光已经提升过一次了。之前ASML公布的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,这个时间上台积电、三星都已经量产3nm工艺了,甚至开始进军2nm、1nm节点了。
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觉人之伪,不形之于色;吃人之亏,不动之于口;施人之恩,不发之于言;受人之惠,不忘之于心。光刻机这东西,中国人真的做不了吗?美国拥有强大的科技研发实力,苹果谷歌微软都是鼎鼎大名的公司,已经被很多人所熟知。但是,美国却造不出一样东西,那就是光刻机。光刻机是芯片制造最重要的设备,苹果高通华为的芯片设计出来后,都要经过光刻机才能把芯片“复印”出来,它的原理就和复印机类似。众所周知,荷兰ASML能够制造全球最强的光刻机,其最先进极紫外光刻机(EUV)售价高达数亿,而且限量供货!不过需要明白的一点是,尽管荷兰ASML光刻机很强大,但它的零部件和核心技术很多都来源于美国,背后有大量尖端科技公司共同控股。因此,ASML表面上看属于荷兰,但事实上它是一家由全球芯片巨头共同成立的公司。光刻机的每一个部件都非常复杂,精度要求极高。ASML光刻机的激光器,光束矫正器,能量控制器,能量探测器,物镜全部都需要特级定制。相比起荷兰ASML光刻机,国产光刻机依然停留在比较落后的水平,最先进的极紫外光刻机(EUV)还做不出来。不过好消息是,国产光刻机早前已经利用紫外光源,实现22nm分辨率芯片的制造,这无疑是一个巨大的进步。由此可见,中国人并非造不出光刻机。有分析人士认为,只要我们积累了大量的经验和知识,并且培养出足够多的尖端制造业企业,要生产出一台顶级国产光刻机其实并不太困难。希望如此。点击展开...“售价高达数亿,而且限量供货!”不是AMSL想限,而是人家目前只能生产得这么快。牛逼的技术都是时间积累出来的,EUV光源人家研究了近20年了,这两年才刚成熟,英特尔,三星,台积电这么多年来不断为AMSL输血,前后投了几十亿。如今好不容易果熟蒂落,自然优先供应这三家。中国的芯片厂耐心等等,也是可以等到的... 毕竟中国半导体加工的需求量超大,目前也算是光刻机的国际大客户。国产方面,目前能量产的最精密级别是90nm,利用多次曝光,最多能给28nm芯片制程。当然这个也很不容易了,同样是长达十年以上的布局获得的突破。这种光刻机在生产非CPU的芯片,和其他半导体器件上需求量也是很大的。不过据说量产的紫外光源还是依赖进口。“...不过好消息是,国产光刻机早前已经利用紫外光源,实现22nm分辨率芯片的制造,这无疑是一个巨大的进步。由此可见,中国人并非造不出光刻机。...” 这个是去年底的新闻,指的是用国产的365nm波长紫外光源,实现了22nm芯片制程工艺,当然了,这个是实验室突破,还不是量产机型。这个据说在AMSL内部都引发了一些讨论。因为现在主流的12nm以上制程,用的是193nm波长光源,新一代的10nm/7nm制程,用的是EUV,14nm波长的光源。365nm的光源做这个级别的芯片,国外以前有一些原理论证,但是他们没有做下去,结果中国的一个团队根据这个理论进行了工程实现。
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这时候怎么习近平不来指导使中国公司超过sml啊,是不是只会指导母猪配崽之类的?SML研发第二代EUV光刻机:性能提升70% 2025年问世半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,成本能占到整个生产过程的1/3,光刻机也因此成为最重要的半导体制造装备,没有之一。目前最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,而且供不应求。2019年,台积电、三星都会开始量产7nm EUV工艺,现有的EUV光刻机也差不多成熟了,虽然产量比起传统的DUV光刻机还有所不如,不过已经能够稳定量产了,7nm及明年的5nm节点上EUV光刻机都会是重点。EUV光刻机未来还能怎么发展?2016年ASML公司宣布斥资20亿美元收购德国蔡司公司25%的股份,并投资数亿美元合作研发新一代透镜,而ASML这么大手笔投资光学镜头公司就是为了研发新一代EUV光刻机。日前韩媒报道称,ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有的光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA(高数值孔径)透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。在这个问题上,ASML去年10月份就宣布与IMEC比利时微电子中心合作研发新一代EUV光刻机,目标是将NA从0.33提升到0.5以上,而从光刻机的分辨率公式——光刻机分辨率=k1*λ/NA中可以看出,NA数字越大,光刻机分辨率越高,所以提高NA数值孔径是下一代EUV光刻机的关键,毕竟现在EUV极紫外光已经提升过一次了。之前ASML公布的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,这个时间上台积电、三星都已经量产3nm工艺了,甚至开始进军2nm、1nm节点了。点击展开...
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如果一个人脑袋装满了如下内容:李鸿章丧权辱国、义和团保家卫国、太平天国农民起义、蒋介石只会摘桃子、地主个个是周扒皮、旧社会暗无天日、美帝亡我之心不死、有国才有家,俄罗斯是兄弟。那么恭喜你!你基本具备脑残和傻逼的基本配置了…… ——作家王朔希望2025年中国的光刻机也追上世界先进水平, 要是能追上第一代EUV光刻机水平,已经非常非常 happy了。点击展开...内心是有些复杂的,肯定希望祖国科技紧跟世界顶级前沿,但同时也知道老共一旦掌握了这些西方仅有的核心商业价值的高科技,那真是对美帝和西方国家是致命打击。
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cryi7667 说:内心是有些复杂的,肯定希望祖国科技紧跟世界顶级前沿,但同时也知道老共一旦掌握了这些西方仅有的核心商业价值的高科技,那真是对美帝和西方国家是致命打击。点击展开...所以为了全世界的自由民主,必须诅咒老共不能紧跟世界顶级科技前沿。
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tinyhuhulp 说:所以为了全世界的自由民主,必须诅咒老共不能紧跟世界顶级科技前沿。点击展开...但有的时候真挡不住,美帝这些高科技企业都想和老共玩,而且玩的开心。其实现在华为的能力已经比10年前强太多了。
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BMO99 说:台積電最早的技術來自荷蘭菲利浦公司,它以前也是台積電的最大股東。晶圓生產的輸贏在良率與效能,同樣奈米級別下,台積電的良率和效能勝過三星,所以台積電才能獨佔高階晶圓市場,雖然三星一直用低價搶單,但客戶不領情。有技術會生產是不夠的,若良率和效能差還是沒有競爭力的。点击展开...良率本身就是制程工艺技术含量的一部分。其他厂家所谓的做不出来,比如英特尔的10nm难产,其实也就是良率上不去的意思。EUV光源的能源损耗非常大,生产成本本身就高,生产效率也比193nm的低很多,对投产需要达到的良率要求就更高了。要注意的是nm等级,是各个厂家自己的定义,类似CPU的时钟频率一样。纯粹数字的对比来判断先进程度,其实不是绝对准确的。比如英特尔的10nm,据说其工艺所能达到的晶体管密度是高于台积电和三星的7nm工艺的,而且高不少。
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BMO99 说:IPhone6同樣是14奈米三星的效能就不如台積電的,所以後來的iPhone的芯片全都由台積電包攔了。英特爾10奈米不如台積電,所以AMD趁機搶了不少市佔率,股票從4元漲到現在31元,接著明年5奈米開出,英特爾可能會尋求台積電或三星支援了。AMD,台裔CEO蘇豐姿將代工從格羅方卓轉到台積電是重大的轉勝點,價格不是惟一的勝負關鍵。点击展开...英特尔和AMD都还没出过10nmCPU吧,上一代的比拼是AMD的12nm台积电制程,对英特尔的14nm制程。接下来AMD将采用台积电7nm制程来抗衡Intel的10nm台积电的技术迭代确实快,DUV光源的老机台,从16nm,12nm快速推进到10nm,再到极限的7nm,多重曝光工艺步骤增加那么多,居然全部都能实现按时量产。接下来EUV光源的7nm估计也是台积电第一个上市量产。华人还是工作勤奋,996三班倒的爆肝式拼搏,不是洋人学得来的。日本当年技术快速进步,同样是有大量的加班狂魔在后面推动。
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给真心关心中国的同学点个赞,这帖几乎都是。
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Carc 说:英特尔和AMD都还没出过10nmCPU吧,上一代的比拼是AMD的12nm台积电制程,对英特尔的14nm制程。接下来AMD将采用台积电7nm制程来抗衡Intel的10nm台积电的技术迭代确实快,DUV光源的老机台,从16nm,12nm快速推进到10nm,再到极限的7nm,多重曝光工艺步骤增加那么多,居然全部都能实现按时量产。接下来EUV光源的7nm估计也是台积电第一个上市量产。华人还是工作勤奋,996三班倒的爆肝式拼搏,不是洋人学得来的。日本当年技术快速进步,同样是有大量的加班狂魔在后面推动。点击展开...同意
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觉人之伪,不形之于色;吃人之亏,不动之于口;施人之恩,不发之于言;受人之惠,不忘之于心。英特爾的CPU因生產良率低產量不足,造成供不應求,廠商轉向購買AMD的芯片。AMD不是只有賣CPU,電競和AI的芯片訂單也成長不少,輝達也被搶走不少訂單,英特爾只剩CPU還領先群雄,伺服器訂單丟了不少,AI更是落後了,手機部門都賣掉了。電子業的產業特性,淡旺季太不均衡了,所以在才適合大陸的發展,因為大陸人喜歡賺加班費又耐操,台積電的夜班大部份由外勞操作,美國波特蘭廠也有夜班,但效率確實不如台灣廠。点击展开...“大陸人喜歡賺加班費又耐操”哈哈,你也太敏感了,这都要酸大陆一下台积电当年的夜鹰计划,原来响应参加的都是大陆的研发工程师啊,这也很好啊
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